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上海伯东考夫曼离子源KDC 40
  • 公 司 名: 伯东企业(上海)有限公司
  • 经营模式: 贸易
  • 企业法人: 近藤聡
  • 企业性质:外商投资企业
  • 成立时间: 1995
  • 发布日期: 2023/8/21 10:55:19
  • 伯东企业(上海)有限公司
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  • 联系人:叶女士 (女士)
  • 经营模式: 贸易
  • 会员积分: 323个
  • 企业性质: 外商投资企业

简要说明:考夫曼离子源 KDC 40

详细介绍:

  考夫曼离子源 KDC 40
KRI 考夫曼离子源 KDC 40
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 40: 小型低成本直流栅极离子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款. 具有更大的栅极, 更坚固, 可以配置自对准第三层栅极. 离子源 KDC 40 适用于所有的离子工艺, 例如预清洗, 表面改性, 辅助镀膜, 溅射镀膜, 离子蚀刻和沉积. 离子源 KDC 40 兼容惰性或活性气体, 例如氧气和氮气. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.

KRI 考夫曼离子源 KDC 40 技术参数

型号

KDC 40

阳极

DC 直流

阳极功率

100W

最大离子束流

>100mA

电压

100-1200V

气体

惰性和反应气体

进气流量

2-10sccm

压力

<0.5m Torr

离子光学(自对准)

OptiBeamTM

离子束直径

4cm Φ max

栅极

钼和石墨

离子束形状

聚焦, 平行, 散射

高度

16cm

直径

9cm


KRI 考夫曼离子源 KDC 40 应用领域
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗女士                            台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-3511 ext 108           T: +886-03-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                       F: +886-03-567-0049
M: +86 152-0195-1076                      M: +886-939-653-958

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联系方式
  • 伯东企业(上海)有限公司
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