详细介绍: 霍尔离子源 eH 3000 KRI 霍尔离子源 eH 3000 上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上高效, 提供更高离子束流的离子源. 尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6” 放电电压 / 电流: 50-300V / 20A 操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性 • 水冷 - 加速冷却 • 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极 • 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率 • 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便 • 等离子转换和稳定的功率控制
KRI 霍尔离子源 eH 3000 技术参数
型号
eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE
供电
DC magnetic confinement
  - 电压
50-250V VDC
  - 离子源直径
~ 7 cm
  - 阳极结构
模块化
电源控制
eHx-25020A
配置
-
 - 阴极中和器
Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode
 - 离子束发散角度
> 45° (hwhm)
  - 阳极
标准或 Grooved
 - 水冷
前板水冷
 - 底座
移动或快接法兰
 - 高度
4.0'
 - 直径
5.7'
 - 加工材料
金属 电介质 半导体
 - 工艺气体
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
 - 安装距离
16-45”
 - 自动控制
控制4种气体
* 可选: 可调角度的支架;
KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域 溅镀和蒸发镀膜 PC 辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD 表面改性, 激活 SM 直接沉积 DD  若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗女士                            台湾伯东: 王女士
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