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射频离子源 RFICP 380
  • 价  格: 面议
  • 最小起订: 1台起订
  • 企业法人: 近藤聡
  • 成立时间: 1995
  • 所 在 地: [浦东新区/上海]
  • 发布日期: 2023年8月21日
  • 伯东企业(上海)有限公司
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  • 联系人:叶女士 (女士)
  • 经营模式: 贸易
  • 会员积分: 323个
  • 企业性质: 外商投资企业

射频离子源 RFICP 380
大口径射频离子源 RFICP 380
上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 最大离子束流 > 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用. 广泛应用于离子束刻蚀机.

KRi 射频离子源 RFICP 380 特性
1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配
2. 离子源结构模块化设计
3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
4. 全自动控制器
5. 离子束动能 100-1200eV
6. 栅极口径 38cm, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用
射频离子源 RFICP 380

射频离子源 RFICP 380 技术规格:

阳极

电感耦合等离子体
2kW & 1.8 MHz
射频自动匹配

最大阳极功率

>1kW

最大离子束流

> 1000mA

电压范围

100-1500V

离子束动能

100-1200eV

气体

Ar, O2, N2,其他

流量

5-50sccm

压力

< 0.5mTorr

离子光学, 自对准

OptiBeamTM

离子束栅极

38cm Φ

栅极材质



离子束流形状

平行,聚焦,散射

中和器

LFN 2000

高度

38.1 cm

直径

58.2 cm

锁紧安装法兰

12”CF


射频离子源 RFICP 380 基本尺寸:
射频离子源 RFICP 380

上海伯东美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域.

作为蚀刻机的核心部件, KRI  射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求!
射频离子源 RFICP 380

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗女士                            台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-3511 ext 108           T: +886-03-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                       F: +886-03-567-0049
M: +86 152-0195-1076                      M: +886-939-653-958

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